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- [发明专利]挠性覆铜板的制作方法-CN202110078573.6有效
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余飞
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南昌欧菲显示科技有限公司
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2021-01-20
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2022-03-11
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H05K3/02
- 本发明提供一种挠性覆铜板的制作方法,该制作方法包括在基板相背的两个表面分别形成第一铜层和第二铜层;在第一铜层背向基板的表面形成第一粗糙化膜层,和/或在第二铜层背向基板的表面形成第二粗糙化膜层;卷绕挠性覆铜板其中,第一粗糙化膜层的表面粗糙度大于第一铜层的表面粗糙度,第二粗糙化膜层的表面粗糙度大于第二铜层的表面粗糙度,且第一粗糙化膜层和第二粗糙化膜层的表面粗糙度均大于第一铜层与第二铜层黏连的粗糙度阈值。通过在铜层上镀糙化膜层,且对粗糙化膜层的粗糙度进行控制,在卷对卷生产过程中,可以避免出现第一铜层与第二铜层表面贴合时发生黏连的现象,保护挠性覆铜板的铜箔表面不受损害。
- 挠性覆铜板制作方法
- [发明专利]一种铜互连的形成方法-CN201110355453.2无效
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姬峰;李磊;陈玉文;胡友存;张亮
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上海华力微电子有限公司
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2011-11-10
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2012-02-29
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H01L21/768
- 本发明涉及一种铜互连结构的形成方法,包括在半导体基底上淀积一介电层;采用光刻、刻蚀工艺,在所述介电层内形成通孔和/或沟槽;在所述通孔和/或沟槽的底部和侧壁淀积金属阻挡层;在金属阻挡层上淀积铜籽晶层并在所述通孔和/或沟槽内填充金属铜,使得金属铜的表面低于所述介电层的表面,从而在通孔和/或沟槽内形成铜金属层以及铜金属层上的铜凹槽;在所述铜金属层的表面和所述介电层表面上淀积一层可防铜扩散阻挡层;采用化学机械研磨去除介电层上的可防铜扩散介电阻挡层,同时铜金属层表面上保留有可防铜扩散介电阻挡层。本发明也可用于制造多层铜互连。
- 一种互连形成方法
- [实用新型]一种保护裸露铜层的软板-CN201620412293.9有效
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陈翔
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鹤山市中富兴业电路有限公司
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2016-05-06
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2016-09-28
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H05K1/02
- 本实用新型公开了一种保护裸露铜层的软板,包括第一绝缘层,所述第一绝缘层上表面设置有内层铜层,内层铜层上表面设置有粘接层,粘接层上表面设置有第二绝缘层,第二绝缘层上表面设置有外层铜层,设置有裸露铜层和用于保护裸露铜层的保护层,所述裸露铜层与内层铜层为一体结构,第二绝缘层做一定深度的切割形成所述保护层。本实用新型通过设置保护层来保护裸露铜层,无需人工贴胶带保护裸露铜层,有效改良了传统软板的生产工艺,大大减少了人工操作和缩短了生产时间,提高了生产效率和产品良率。
- 一种保护裸露
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